ChainThink 消息，7 月 27 日，据 The Information 援引知情人士报道，一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV（深紫外）光刻机制造设备。

据悉，该企业计划于 2026 年生产约 5 台 DUV 光刻机，并在 2027 年扩大至约 20 台。作为对比，ASML 去年交付 131 套浸没式 DUV 光刻系统。

消息人士称，这批国产 DUV 光刻机计划交付给中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等中国主要芯片制造商。其中，长鑫存储预计将成为国产先进半导体制造设备的重要应用方。